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    發(fā)布日期: 2021-04-12
  • 語(yǔ)言: 其他
  • 標(biāo)簽: 共吸附??

資源簡(jiǎn)介

本文描述的工作是對(duì)銥場(chǎng)發(fā)射體整個(gè)尖端表面上金的吸附的研究。 該研究已使用場(chǎng)發(fā)射顯微鏡進(jìn)行。 通過注意福勒-諾德海姆圖的斜率變化,已經(jīng)測(cè)量了由金的亞單層在超高真空中的沉積蒸氣產(chǎn)生的銥襯底的電子功函數(shù)的變化。 用相同的方法研究銅在銥上的吸附[1],以研究金在銥上的吸附。 在不能熱除去的含(100)環(huán)的銥表面上檢查了金的吸附。

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