主要內容： 本課程圍繞超大規模集成電路制造中的先進光刻技術，陳 述與之相關的理論、設備、材料、測量與控制等。為了適應當前先進光 刻的需求，本課程會重點講述在14nm及以下節點廣泛使用的計算光刻、 分辨率增強技術以及設計-工藝聯合優化技術等。 ? 授課目標： 掌握光刻技術的原理，對計算光刻技術進行深入研討 ? 授課對象： 微電子學與固體電子學專業，集成電路制造專業研究生